大阪大学大学院理学研究科の和田拓真さん(研究当時:大学院生)、山岡賢司助教、髙島義徳教授らの研究グループは、高分子界面におけるホストーゲスト錯体の形成を制御することで、外部刺激による易解体(いかいたい)と再接着を可能にする新規高分子接着材料を開発しました。
これまでホストーゲスト錯体の分子認識を用いた接着は注目されてきましたが、なぜ繰り返し貼ったりはがしたりできるのか、そのメカニズムは十分に理解されていませんでした。そこで、中性子反射率法を用いて接着界面をナノスケールで可視化することにより、錯体形成が高分子鎖の拡散を抑える事に反して接着は強くなるという一見矛盾する現象を世界で初めて明らかにしました。
本研究で開発した接着技術は、オンデマンドで分解可能かつ繰り返し使用できる接着剤として、組立時の不良低減による歩留まりの改善や使用後の複合材料製品における分別回収・リサイクルを可能にし、資源循環型社会の実現に貢献することが期待されます。
本研究成果は、Wiley誌「Advanced Materials」に、10月3日(金)に公開されました。
外部刺激による接着・はく離の制御と接着界面におけるナノ構造の可視化
本件に関する問い合わせ先
大阪大学 大学院理学研究科
助教 山岡 賢司(やまおか けんじ)
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